Intel 这几年在工艺进度上落后跟 10nm、7nm 工艺屡次跳票有关，而新工艺延期也跟 Intel 此前不考虑 EUV 工艺有关，所以 10nm 工艺才上了四重曝光，导致良率上不去，迟迟无法量产。
Intel 之前以为 EUV 工艺不行老练，现在 EUV 光刻工艺现已量产几年了 ，Intel 也开端跟进了，原先的 7nm 工艺、现在的 Intel 4 工艺会是全面运用 EUV 光刻机的开端，首款产品是 Meteor Lake 流星湖 ，2023 年发布。
之后的 Intel 3 工艺 、Intel 20A 工艺上也会继续运用 EUV 工艺，进一步提高性能及能效。
再往后 Intel 还会活跃跟进 EUV 技能发展 ，2025 年之后的工艺现已规划到了 Intel 18A， 将运用第二代 RibbonFET 晶体管 ，EUV 光刻机也会有一次严重晋级。
Intel 现在正与 ASML 密切合作，保证这一职业突破性技能取得成功，逾越当时一代 EUV。
这就意味着 Intel 很有或许首发下一代 EUV 光刻机，NA 数值孔径从现在的 0.33 提高到 0.5， 这是 ASML 的 NXE：5000 系列，之前估计是在 2023 年面世，现在推延到了 2025-2026 年，单台价格估计将逾越 3 亿美元，差不多人民币 20 亿一台。
Intel 为了逾越台积电、三星重返半导体技能一哥，现在可以说是拼了老命了，对玩家来说这却是功德，以往的带头大哥回来了。
